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x제품 상세 정보
원자 번호 | 74 | 원자량 | 183.84 |
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비등점 | 5927' C | 전기음성도 | 2.36 |
소재 | 텅스텐 | 녹는점 | 3410' C |
산화 상태 | 6, 5, 4, 3, 2, 0, -1, -2, -3, -4, -5, -6 | 표면 처리 | 끝마무리, 샌드 블라스팅, 양극화, Etc. |
강조하다 | 고순도 텅스텐 스프터링 목표물,샌드브래싱 텅프렌 스프터링 목표물,990.95% 텅프렌 스프터링 |
제품 설명
1,설명:
재료: 텅스텐 표적 재료는 일반적으로 고순도 텅스텐 또는 텅스텐 합금으로 만들어지며, 물리 증기 퇴적 (PVD) 공정에서 사용하기 위해 특별히 설계되었습니다.
높은 녹는점: 텅스텐은 약 3,422도 (6,191도) 의 매우 높은 녹는점을 가지고 있습니다.PVD 공정에서 생성되는 높은 온도에 견딜 수 있도록.
밀도: 텅스텐 표적 재료는 높은 밀도를 가지고 있으며 일반적으로 1 입방 센티미터 (g/cm3) 당 17.8 ~ 19.3 그램 사이로 높은 퇴적 속도와 효율적인 재료 활용을 보장합니다.
2,사양:
소재 | 고순도 텅스텐 또는 텅스텐 합금 |
녹는점 | 약 3,422°C (6,191°F) |
밀도 | 17.8 ~ 19.3 그램 / 3cm3 (g/cm3) |
열전도성 | 우수한 열전도성 |
스프터링 비율 | 상대적으로 낮은 스프터링 속도, 최소한의 재료 손실 |
순수성 | 고도의 순수성, 최소한의 불순물 |
통일성 | 일관성 있는 필름 퇴적을 위한 정확한 차원과 균일성 |