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착용 저항성 텅스텐 표적 스프터링 길이 100mm 높은 열 전도성

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x이름 | 텅스텐 스퍼터링 타겟 | 형태 | 둥글다 |
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소재 | 텅스텐 | 화학조성 | W 99.95% 최소. |
표면 조건 | 선반 처리, 연마, 연마 또는 경면 연마 | 적용 | 내마모성 및 내식성 박막 코팅 |
강조하다 | 착용 내성 텅프먼 표적,착용 내성 텅프렌 스프터링 타겟,100mm 착용 저항성 텅스텐 스프터링 타겟 |
텅프렌 회전 스프터링 표적
텅스텐 타겟은 주로 항공우주, 희토류 용조, 전기 광원, 화학 장비, 의료 장비, 금속 기계, 용조 장비 및 석유 등에 사용됩니다.
매개 변수
OD ((mm) |
ID ((mm) |
길이 ((mm) |
주문제조 |
140~300 |
120~280 |
100-3300 |
모델 번호 |
W1 |
|||
형태 |
맞춤형 |
|||
화학적 성분 |
99.95% W |
특징
1고밀도
2. 고도로 마모 저항
3. 낮은 열 확장 계수와 높은 열 전도성
4높은 진동 억제 능력과 높은 영 모듈
5고 산화 저항성 및 부식 저항성
사양
원자 번호 |
74 |
CAS 번호 |
7440-33-7 |
원자 질량 |
183.84 [g/mol] |
녹는점 |
3420 °C |
끓는점 |
5555 °C |
밀도 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
결정 구조 |
몸 중심의 큐브 |
20 °C의 선형 열 확장 계수 |
4.410-6[m/mK] |
열전도 20 °C |
164 [W/(mK) ] |
20 °C의 특화 열 |
0.13 [J/gK] |
20 °C의 전기 전도성 |
18.2106[S/m] |
20 °C의 특전 저항 |
0.055 [mm2]/m |
응용 프로그램
반도체
화학 증기 퇴적 (CVD)
물리적 증기 퇴적 (PVD) 디스플레이